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G-43Y4型高精密單面光刻機

簡介—— 一、概述:G—43Y4型光刻機是根據市場需求研發的產品,其最大的特點是曝光面積極大,通常情況下為Φ6",對被光刻基片的外

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一、概述:

G—43Y4型光刻機是根據市場需求研發的產品,其最大的特點是曝光面積極大,通常情況下為Φ6",對被光刻基片的外形、厚度要求較低,可對多種材料的基片進行光刻,它特別適用一次光刻的產品,可制作聲表面器件、可控硅、小液晶顯示器、傳感器、二極管、園光柵、編碼盤等,按用戶要求可提供圓形承片臺或方形承片臺。承片臺都能實現“真空密著”曝光,加之光均勻性好(Φ150mm范圍內≤±7%),所以大大提高光刻質量。

根據用戶要求,可在G-43Y4型光刻機外加裝對準設置,以進行版對片的精密對準曝光。

二、主要技術參數:

1. 曝光面積Φ4"。

2. 實現“真空密著”曝光,(通過調整真空度能實現硬接觸、軟接觸或微力接觸曝光)。但基片厚度≤2mm。

3. 曝光最小分辨率為3μm。

4. 可以為用戶制作具有預定位機構的專用承片臺,片對版的預定位精度≤±0.1mm。

5. 曝光頭用燈為GCQ200Z型超高壓直流球形汞燈,光強≤10mw/cm2,光的不均勻性在Φ100mm范圍內≤±4%。

可以通過調節承片臺相對于曝光頭距離來實現恒光強曝光。也可以通過調節直流汞燈電流大小來改變光強。

三、結構簡介:

G—43Y4型光刻機主要由以下部份組成:

1. 蠅眼曝光頭:

曝光燈采用GCQ200Z型超高壓直流球形汞燈,這種汞燈的優點是近紫外線3650 ?,4047?,4385 ?相當豐富,用365測頭測量,顯示光強可達20mw/cm2以下,非常有利于光刻,光的均勻性很好,不均勻性測量在Φ100mm范圍內≤±4%,冷卻方式為風冷(內裝排風扇)。

在該機底座上裝有進口的歐姆龍時間繼電器,0~999.9秒內控制曝光快門。

汞燈X、Y、Z調中裝置設在曝光頭上面,以便用戶進行光強度和光均勻性調節。

汞燈隨使用時間增長而逐漸老化,照度逐漸降低,用戶可改變承片臺高度,而保持恒光強,也可改變汞燈電流大小保持恒光強。

2.承片臺:

該機只配一種尺寸的承片臺,承片臺大小和形狀,是根據用戶要求提供,可以提供圓形和方形承片臺。而且為用戶提供二個相同承片臺。當一個承片臺裝上基片和掩膜版進行曝光時,另一個承片臺在進行下一片的裝卸工作,從而提高了生產量。

不管哪一種承片臺,都具有真空吸片動作和真空密著功能。

〈真空吸片〉動作,保證用戶取片時,不因片粘在版上,后因脫落而摔壞片。

〈真空密著〉功能,是保證版和片之間的良好接觸,不僅提高了光刻質量,而且保證承片臺從裝換片位置放到曝光位置時,版片位置不會移動,更不會讓版脫落而損壞。

調節真空密著度大小(有真空表指示)。

≤-0.05Mpa為硬接觸

≤-0.05~-0.015Mpa為軟接觸

≤-0.015Mpa為微力接觸

根據用戶要求,可以作成有預定位機構的承片臺,其預定位精度≤±0.1mm。

3.電器控制系統:

1) 打開電源開關(面板上標“電源”開關)。此時汞燈自然打開,指示汞燈亮。接上真空源,快門被關上。待汞燈亮度正常后(一般需要15分鐘以上),可以進行如下操作。

2) 關上二個承片臺的真空吸片動作和真空密著功能,觀察系統真空表上的真空度,是否≤-0.07Mpa,否則,就要查找真空低的原因(是否有漏氣現象)。

3) 放基片到任一承片臺上(注意放基片的位置和方向),按與該承片臺相應的按鈕進行“真空吸片”,然后放掩膜版到基片上(當然也要注意版放的位置和方向),按相應的真空“密著”按鈕。調整密著真空大小。使版、片在大氣壓作用下緊密貼合好。然后將承片臺放到可以升降的臺上。調整好你所需的曝光時間,按“曝光”按鈕進行曝光。




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