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G-26型高精密單面光刻機

簡介—— 一、 主要用途:本設備是我公司專門針對各大專院校及科研單位對光刻機的使用特性研發的一種精密光刻機,它 主要用于中小規模集

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一、 主要用途:

本設備是我公司專門針對各大專院校及科研單位對光刻機的使用特性研發的一種精密光刻機,它 主要用于中小規模集成電路、半導體元器件、光電子器件、聲表面波器件的研制和生產。


二、 主要性能指標

1. 設備能真空吸附7" ×7"方形掩膜板,對版的厚度無特殊要求(1~4mm皆可)。

2. 設有相對應的真空吸附基片的“承片臺”,適用于Φ6"。基片厚度≤5mm,當您的基片厚度≤1mm時,我公司為本機配置標準承片臺(不另計費),當基片厚度>1mm時,設備需配置專用承片臺(訂貨時用戶須說明,費用另議)。

3. 照明:

光源:采用GCQ350Z型超高壓水銀直流汞燈。

照明范圍:≤ф155mm。

光強:用365測頭測量≤3.5mw/cm2

不均勻性:在ф155mm范圍內: ≤±6%。

4. 設備采用進口時間繼電器控制氣動快門,動作準確可靠。

5. 該機為接觸式曝光機,可實現:

a. 硬接觸曝光:用管道真空來獲得高真空接觸。真空≤-0.05MPa。

b. 軟接觸曝光:接觸壓力可將真空降到-0.02MPa ~ -0.05MPa之間。

c. 微力接觸曝光:小于軟接觸。真空≥-0.02MPa。

6. 分辯率:如果用戶的“版”、“片”精度及其他條件符合國家規定,硬接觸曝光的最小分辨度可達2μm以上

7.對準:觀察系統為兩個單筒顯微鏡上裝二個CCD攝像頭,通過視屏線連接到顯視屏上。

a. 單筒顯微鏡為1.6X~10X連續變倍顯微鏡。

b.CCD攝像機靶面對角線尺寸為:1/3,(6mm);

c.采用19"液晶監視器,其數字放大倍率為19÷1/3=57倍;

d.觀察系統放大倍數為:1.6×57≈91倍(最小倍數),10×57≈570倍。

1)對準臺:(采用片動,版不動方式)

X、Y調整:±5mm。

2)θ調整:轉角≤5°

對準間隙(分離間隙)0~5mm任意可調。

整個對準臺相對于顯微鏡可作±15mm掃描運動。

“接觸、分離”20μm情況下,片相對于版的“漂移量”,可調到≤±0.5μm。

8.設備所需能源:

主機電源: 220V±10%   50HZ

潔凈空氣≥0.4MPα。

真空:-0.07~-0.08MPα。

9. 尺寸和重量:

尺寸:機體1300 mm(長)×720 mm(寬)×1700mm(高)。

重量:≤200Kg。

10.G-25XB型光刻機的組成:

由主機(含機體和工作臺),對準用單筒顯微鏡,高均勻性曝光頭組成。

11.附件如下:

a.主機附件:(出廠時安裝到機器上的標準配置,用戶有特殊要求需訂貨時提出)

1) 7"×7"方型掩版夾盤。

2) 用于Φ6"基片的真空夾持承片臺。

b. 顯微鏡組成

(1) 單筒顯微鏡二個

(2) 兩個CCD

(3) 視頻連接線。

(4) 計算機和19"液晶監視器。




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